这种新方法的基本过程是使用石墨烯作为一种“复制机器”,再将复杂的晶体图案从下面的半导体晶片转移到相同材料的顶层。这种工艺可用于设计未来的新二维半导体材料晶圆,例如二硒化钨,二硒化钼、黑磷等,如果这些新材料未来会被应用于芯片制造的话。
工程师制定了精心控制的程序,将单张石墨烯放在昂贵的晶圆上。然后他们在石墨烯层上生长半导体材料。他们发现石墨烯足够薄以致看起来不可见,然后顶层的材料透过石墨烯看到下面的晶体晶片,印记其图案而不受石墨烯的影响......
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