如何制备一维氧化钨纳米材料？

氧化钨是一种新型的光催化剂和高温超导材料，能被用来制作钨制品，电致变色窗户，红外开关，储能电池电极，写读擦光学设备，气敏、湿敏和温敏元件等。但是，现有的一维氧化钨纳米材料的制备方法如模板法、煅烧介孔前驱体法、有机溶液法、高温氧化法和红外线加热氧化法等，均存在较大的不足如工艺复杂、生产效率低等，所以为了弥补上述的不足，下文将介绍一种新的生产方法。其具体步骤如下：

将蒸馏水与钨粉末进行混合，然后放入高压釜中充分搅拌，反应物在423-478K温度下反应1-30天，接着过滤，在323-373K温度下干燥12-24h，即可得到所需要的产物，产品长度为几百纳米到几个微米，宽度5-20纳米。注意：所述高压釜采用带有聚四氟乙烯内衬的不锈钢高压釜，反应溶液填充体积为容器体积的50-75%。所述蒸馏水体积用量为反应釜容积的50-75%，钨粉末的用量为0.01-0.5g。

该生产技术的优点包括：在较低温度下和不添加任何表面活性剂和模板剂的条件下，用简单的水热方法制备出了氧化钨纳米线，操作过程简单，原料易得，成本低廉，溶剂无毒无害环境友好，可以大量合成，制备的氧化钨纳米线的性能非常优越，用途广泛，用于光电催化，太阳能电池，传感器，锂离子电池和场发射等方面；适合大规模推广，具有显著的经济效益。

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